氮铝化钛(AITiN)涂层真空PVD沉积镀膜机介绍
PVD离子镀膜机是一种用于材料科学、机械工程领域的科学仪器，于2014年4月29日启用。该设备具备以下技术指标和主要功能：
技术指标：
最高沉积温度可达500℃。
配备电弧靶4个、离子源1个、磁控靶2个以及HIPPMIS 1个。
主要功能：
PVD涂层镀膜制备，特别适用于氮铝化钛(AITiN)涂层的真空PVD沉积镀膜。
PVD离子镀膜机在材料科学和机械工程领域的应用中扮演着重要角色，其技术指标和功能使其成为制备高质量氮铝化钛(AITiN)涂层等PVD涂层的理想选择。通过该设备，可以实现氮铝化钛涂层的真空PVD沉积，从而应用于各种需要耐磨、耐腐蚀等高性能涂层的产品上
