真空磁控溅射镀膜机是一种高效、环保的镀膜设备，主要特点是体积小、结构简单紧凑且易于操作，对实验室供电要求低。这种设备主要部件采用进口或国内优质配置，从而提高设备的稳定性。自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。小型真空磁控溅射镀膜机有多种不同配置可供选择，包括基本型、旗舰型、豪华型、尊享型，可以根据客户的不同需求进行灵活配置。标配包括2只Φ2英寸永磁靶和一台500W直流溅射电源，主要用于开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。
该设备作为一种高效、环保的镀膜方法，在多个领域都有广泛的应用。例如，在材料科学领域中，可用于制备各种功能薄膜材料，如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等；在电子工业领域中，可用于制备电子元器件的薄膜电极、导电膜等；在光学领域中，可用于制备光学薄膜、增透膜、反射膜等；在装饰领域中，可用于制备各种美观且耐腐蚀的镀膜装饰材料。随着科技的不断发展，小型桌面式磁控溅射仪的应用领域将会越来越广泛。
