PVD电弧离子技术镀膜设备介绍
PVD电弧离子技术镀膜设备是一种高效、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。
PVD电弧离子技术镀膜设备主要应用于材料科学和机械工程领域，通过在真空状态下注入氩气，使氩气桩基靶材分离成分子，并被导电的货品吸附，从而形成一层均匀光滑的表面层。这种设备属于物理沉积现象，常见的类型包括多弧离子镀膜设备、直流磁控溅射镀膜设备和中频磁控溅射镀膜设备等。
设备的技术指标包括最高沉积温度可达500℃，配备有4个电弧靶、1个离子源和2个磁控靶，以及1个HIPPMIS。PVD电弧离子技术镀膜设备能够制备PVD涂层镀膜，广泛应用于各种材料的表面处理，如金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等。
设备的电源类型多样，包括直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源和脉冲偏压电源，满足不同工艺需求。真空室结构采用立式前开门设计，具有双层水套式或水槽式冷却和后置抽气系统。真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵/分子泵和维持泵组成，确保了高真空环境。加热系统可调可控温度范围从常温至350度，采用不锈钢加热管加热。充气系统配备质量流量控制仪，可实现1-4路控制。设备的极限真空度达到6×10-4pa（空载、净室），空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟，保压率1h≤0.6pa。工件旋转方式支持上旋转或下旋转+公自转变频无级可控可调，转速范围0-20转/分。控制方式包括手动+半自动/触摸屏+PLC，满足不同操作需求。真空室尺寸可根据客户产品及特殊工艺要求订做。
